1. 계획서

                      종합설계 프로젝트 계획서 요약

팀명

EDS

제출일

2012 9 6

프로젝트 제목

반도체 식각공정 모니터링 시스템

팀원

성명

학번

SNS 주소

이효익(조장)

20073240

www.facebook.com/SomethingUnchangeable

박정우

20062713

www.facebook.com/dpple

양경민

20093304

www.facebook.com/YangKyungmin

유인재

20093239

www.facebook.com/yoo0826

이홍렬

20073239

www.facebook.com/hongryeol.lee

설계 프로젝트 개요

프로젝트 개요

반도체 산업은 1950년대 중반부터 급격히 일어나기 시작한 우주 개발과 미사일 등 새 군용 기기의 발전을 시작으로 직결되어, 현대에 이르러서는 소형·경량의 고신뢰성 전자부품의 필요성으로부터 본격적인 마이크로 일렉트로닉스(microelectronics) 시대로 접어들게 되었고, 이에 따라 세계 각국에서 개발 경쟁을 치열하게 벌이고 있다.

특히 반도체 제조 공정에서 발생하는 불량을 사전에 방지하여, 불량으로 인한 피해를 줄이기 위해 공전중단점(End-point)을 감지하는 기술에 관심이 쏠리고 있다. 실제로 반도체 회로를 형성하는 식각 공정에서의 불량은 비용적으로 큰 피해를 야기 시킨다.

따라서 반도체 식각 공정을 실시간으로 관찰하고 정해진 시나리오에 의한 공정 관리·제어를 통해 불량을 사전에 방지하여 피해를 줄이고 공정 관리 자동화 효율을 극대화하는 모니터링 시스템을 기술한다.

장점

- 식각 공정 내에서의 불량 판별 가능

- 플라즈마 공정 도식화를 이용한 신뢰성 증가

기술개발 내용 및 방법

- 반도체 식각 공정을 위한 모니터링 및 공정 진단 시스템 개발

- OES와 PECS를 이용한 식각 공정 알고리즘 개발

- 병렬 처리를 통한 빠른 플라즈마 디스플레이 UI 설계

- OES를 이용한 식각 검사 시스템 개발

- PECS를 이용한 식각 검사 시스템 개발

- Abnormal Discharge에 대한 검사시스템 개발

- MFC를 이용한  Windows 기반의 시스템 개발

- 별렬 처리를 이용하여 다수의 식각 공정에서 나타나는 플라즈마 처리

결론

- 반도체 제조 공정 내의 식각 검사 프로그램

- 식각 검사를 통하여 불량을 줄임으로써 이익 극대화

 


Ċ
허대영,
2012. 9. 6. 오전 3:40